REV-X 플러그인 파라미터 조절

REV-X는 원음을 향상시키기 위한 부드러운 어테뉴에이션, 스프레드 및 깊이를 통해 해상도가 높고 풍부한 반향의 음질을 선사하는 리버브 알고리즘입니다. REV-X Hall, REV-X Room, REV-X Plate의 3개 프로그램 중에서 음향 환경과 용도에 맞는 프로그램을 선택할 수 있습니다.

a	EFFECT TYPE 이펙트 유형을 선택합니다.

b	Reverb Time 잔향이 감쇠되어 중지될 때까지 경과된 기간입니다. 수치가 높을수록 잔향이 길어집니다.

c	Initial Delay 음향이 입력되어 잔향이 시작될 때까지 경과된 기간입니다. 값이 클수록 잔향 시작 시간이 지연됩니다.

d	Decay 잔향 엔벌로프의 형상으로, 잔향 특성은 값에 의해 결정됩니다.

e	Room Size 공간의 크기입니다. 값이 클수록 더욱 큰 공간이 재현됩니다. 이 값은 리버브 시간 값과 관련이 있습니다. 이 값을 변경하면 리버브 시간 값이 변합니다.

f	Diffusion 잔향의 밀도 및 스프레드 상태로, 값이 클수록 밀도가 커지고 스프레드 상태가 강해집니다.

g	HPF 이 필터는 잔향의 저주파 범위를 차단합니다. 이 값이 지정하는 주파수 아래의 범위가 차단됩니다. 이 필터는 본래 소스 음향에 영향을 미치지 않습니다.

h	LPF 이 필터는 잔향의 고주파 범위를 차단합니다. 이 값이 지정하는 주파수 위의 범위가 차단됩니다. 이 필터는 본래 소스 음향에 영향을 미치지 않습니다.

i	Hi Ratio 고주파 범위의 잔향 길이입니다. 고주파 범위의 잔향 기간은 리버브 시간에 대한 비율로 표시됩니다.

j	Lo Ratio 저주파 범위의 잔향 길이입니다. 저주파 범위의 잔향 기간은 리버브 시간에 대한 비율로 표시됩니다.

k	Low Freq Lo 비율 값의 기준으로 사용되는 주파수 값입니다. 이 값 아래의 주파수 대역은 Lo 비율 파라미터 설정의 영향을 받습니다.

l	필터 주파수 응답 곡선 이 곡선은 HPF 및 LPF 값에 따라 변합니다.

m	잔향 이미지 이 이미지들은 고범위(10kHz), 중범위(1kHz), 저범위(100Hz)의 잔향을 나타내며 파라미터 값에 따라 형태가 변합니다. 수직축, 수평축 및 형태는 각각 레벨, 리버브 시간 및 엔벌로프를 나타냅니다.

n	리버브 시간 곡선 이 곡선은 고범위(10kHz), 중범위(1kHz), 저범위(100Hz)의 리버브 시간을 나타내며 Reverb Time, Hi Ratio 및 Lo Ratio 파라미터 값에 따라 변합니다.

o	Zoom 이 필드는 시간축(수평축)이 표시하는 기간(초)을 나타냅니다.

p	Zoom Out 버튼 이 버튼을 클릭하면 시간축(수평축)이 표시하는 시간 값(초)이 증가하므로 화면에서 수평축이 축소됩니다.

q	Zoom In 버튼 이 버튼을 클릭하면 시간축(수평축)이 표시하는 시간 값(초)이 감소하므로 화면에서 수평축이 확대됩니다.

r	MIX 슬라이더 이 컨트롤을 사용하면 dry 및 wet(이펙트) 음향의 믹스 밸런스를 조절할 수 있습니다. 밸런스가 0%일 경우에는 dry 음향만 출력되지만 밸런스가 100%일 경우에는 wet 음향만 출력됩니다.